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X熒光射線（XRF）測厚儀器特點 

1、鍍層分析快速、無損，對樣品無需任何處理。一般測試一個點只需要數(shù)10~3分鐘，分析高。

  金屬鍍層測厚儀是光物理測量，其對測試樣品不會產(chǎn)生任何的物理、化學變化，因此，其屬于無損測量。同時對測試的樣品不需要任何處理，分析速度更加快捷。

2、可測試超薄鍍層，如：在測試鍍金產(chǎn)品時，可測試0.01米的鍍層厚度，這是其他測厚設(shè)備無法達到的。

     金屬鍍層測厚儀通過射線的方式來檢測鍍層的厚度，因此，其對樣品的表面物質(zhì)測試為靈敏，因此，其非常適合測試超薄鍍層，也是目超薄鍍層常用的測量方法。

3、可測試多鍍層，分析遠遠高于其他測量方法。

金屬鍍層測厚儀具有一定的穿透能力，因此，在測試鍍層時，它可以穿透多層鍍層，通過每層鍍層產(chǎn)生的特征X射線計算其厚度，并可分析其鍍層的組成。

4、可分析合金鍍層厚度和成分比,這是其他測厚設(shè)備不能做到的。   

5、對于樣品可進行連續(xù)多點測量，適合分析鍍層的厚度分布情況并可以對樣品的復雜面進行測量。

    由于金屬鍍層測厚儀的無損分析方法，同時儀器高度的自動化控制技術(shù)，baozheng測試中可以進行連續(xù)多點測量，不但提高測試效率，同時可以分析測試樣的厚度分布情況。

6、對分析的多鍍層每層之間的材料，要求有明顯的區(qū)別，即，每層樣品元素有明顯的差別。

     由于X熒光是通過特征X射線，對被測樣品進行厚度分析的，因此每層鍍層的材料應有明顯的區(qū)別。

7、不可以測試超厚樣品，普通金屬鍍層總厚度一般不超過30微米。根據(jù)各種元素的能量不同，測量范圍都不相同,如：

  原子序25~40，約0.01~30um原子序41~51，約0.02~70um,但是陶瓷上的涂層因為密度相對普通金屬電鍍工藝,密度會小,所以可以測試更厚,比如未燒結(jié)的MoMn涂層可以測試150微米以上.   

8、可以對小樣品進行測試，例如：螺絲、電路板焊盤、接插件的插針等?？梢詫射線照射在樣品的光斑調(diào)到很小的地步（可以達到微米，因此，超小樣品的測試非常容易。

9、屬于對比分析儀器，測試不同的鍍層樣品需要不同的鍍層標樣，雖然有FP法的測試軟件，但在jingzhun測試中，一定需要標準樣品進行校對，因此，企業(yè)應用中采用標樣校對的方法是常見的。

10、針對不同的鍍層測試對象，可選擇不同結(jié)構(gòu)的X熒光分析儀器。例如：上照射和下照射的設(shè)備；探測器分為正比計數(shù)器和半導體探測器的等，他們都有各自的優(yōu)缺點。

原創(chuàng)作者：江蘇天瑞儀器股份有限公司